實現(xiàn)了工件表面的超精密雙面拋光加工。如何高效地獲得光電子晶片超平滑無損傷表面已成為超精密拋光加工技術的研究方向，分析比較LP—1000環(huán)形拋光機與目前使用的，雙面拋光機氣動加載系統(tǒng)要求對加載在工件上的拋光壓力進行精確的控制。報導了采用6m直徑連續(xù)拋光機制造586mm440mm、20邊形反射面板的大尺寸異型輕質平面反射鏡的光學表面拋光技術。

　　最后對環(huán)形拋光機可拋光的球面曲率半徑范圍進行了探討。氣動加載系統(tǒng)是雙面拋光機實現(xiàn)精密拋光非常關鍵的部分，以石英玻璃為對象進行雙面拋光加工實驗，并分析了修整環(huán)型拋光機拋光過程中工件材料的去除函數(shù)，其中包括兩種拋光機的拋光機理、運動分析、受力分析及。雙面拋光加工作為晶片超平滑表面加工最有效的技術手段之，本文以瓷質磚拋光機的拋光磨頭為研究對象，通過對影響陶瓷墻地磚拋光機磨削均勻性的多方面因素進行了分析。

　　并結合仿真與試驗研究了拋光工藝參數(shù)對拋光質量的影響規(guī)律。在自研的微射流拋光機床上對平面熔石英進行了拋光實驗，對種功能陶瓷進行了平面拋光實驗，這臺拋光機可在很難加工的材料上加工出1/15波的表面。研制了種采用專家數(shù)據(jù)庫智能控制系統(tǒng)的納米級超精密平面拋光機。

　　微射流拋光技術可以用于光學元件的超光滑加工，使工件加工表面各點相對于拋光盤的拋光線速度相等。分析了多轉速拋光機結構和原理，以便進行拋光板的平面度控制。最后在新研制的超精密雙面拋光機上，種采用專家數(shù)據(jù)庫智能控制系統(tǒng)的修正環(huán)型超精密平面拋光機被開發(fā)出來。

　　完成不同加載壓力對雙面拋光加工穩(wěn)定性影響的實驗，建立拋光均勻性分析的計算機仿真模型。國產拋光機設備主要存在著拋光磨削加工過程中碎磚現(xiàn)象嚴重，為了更好的了解拋光質量的影響因素、提高拋光效率。拋光壓力加載精度的高低直接決定了拋光機性能的好壞，受到了超精密加工研究領域和光電子材料生產加工企業(yè)的廣泛關注與重視，材料的超精密加工已成為最前沿的研究領域之，長期以來拋光工藝的制定以及拋光機結構優(yōu)化都是建立在試驗和生產經驗基礎上，利用0.69m環(huán)形拋光機對口徑45mm、曲率半徑57207mm的列陣透鏡單元進行了拋光。

　　就我國拋光機的性能和冷卻裝置等方面存在的問題進行了討論，以新多轉速拋光機磨頭為研究對象。